集成电路工艺实验室位于天津大学第26教学楼D-144。总面积280 m²，均为十万级净化室，分为清洗区、光刻区、氧化扩散区、刻蚀区、镀膜区、退火区和测试区。拥有实验教学设备28台套，总价值245万元。涵盖清洗、氧化、光刻、刻蚀、扩散、溅射、退火等集成电路核心制备工艺。搭配自主开发的光刻与溅射虚拟仿真实验软件，具备进行线上线下、虚实结合的集成电路工艺制备实验教学能力。开设分布工艺实验9个、集成工艺实验2个、虚拟仿真实验2个。面向电子科学与技术专业、集成电路设计与集成系统、未来技术等专业本科生开展实验教学，包括课程思政示范课和项目式教学课程等。支撑《微电子工艺技术原理》、《生产实习》、《半导体特种效应》、《电子科学与技术创新综合实践》等核心理论与实践课程。
        在非教学时段对外开放，学生可自主完成本科毕设、大创、竞赛和科研等高阶实践活动，年均对外开放1200人时。支撑学生获天津大学第三届“未来三十年”颠覆性创新创想大赛一等奖、天津大学“挑战杯”一等奖、全国大学生集成电路创新创业大赛三等奖。

1. 超净间                     1间
2. 控制用计算机               2台
3. 超声清洗机（PS-20A）       2台
4. 稳压电源（TND1(SVC)-1.5）  2台
5. 去离子水制水机             1台
6. 逻辑分析仪探头（P5910）    1个
7．逻辑分析仪（TLA6401）      1台
8．烘箱（202A-0）             2台
9．匀胶机（KW-5）             1台
10．光刻机（H94-17G）         1台
11．冷却循环水机（FY-02）     1台
12．真空泵（2XZ-8）           1台
13．扩散泵（K-200）           1台
14．复合真空计（FZH-2B）      1台
15．PID控制器（DC1040CT-101-000-E）  12个
16. 反应离子刻蚀机(RIE-100)    1台
17. 金相显微镜(4XB)           3台
18. 超声清洗机(PS20)          2台
19. 快速退火炉(RTP-500)       1台
20.手动分析探针台（MPT561-6） 2台
21.半导体高温扩散氧化炉（D300-410） 1台
22.电热恒温水槽（JK-WBN-150A）2台